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鶴壁市半導體行業產品清洗用超純水設備
所屬類別: EDI超純水處理設備
設備參數:
  操作壓力:1.0Mpa(Mpa)
  水電阻率:18MΩ·cm
  出水量:500L/H
  外形尺寸:160*100*160(cm)
  電壓:380(V)
  水質:0.55
  功率:380(w)
  電導率:0.06
  脫鹽率:99.999(%)  
  超純水設備是既將水中的導電介質幾乎完全去除,又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備。半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業、大規模、超大規模集成電路需用大量的高純水、超純水清洗半成品、成品。在光伏行業電子管生產中,如其中混入雜質,就會影響電子的發射,進而影響電子管的放大性能及壽命,在顯像管和陰極射線管生產中,其熒光屏內壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質,如其配制純水中含銅在8ppb以上,就會引起發光變色;含鐵在50ppb以上就會使發光變色、變暗、閃動并會造成氣泡、條跡、漏光點等廢次品。因此水的質量相當重要。集成電路的集成度越高,對水質的要求也越高。目前我國電子工業部把電子級水質技術分為五個行業標準,分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區分不同水質。    



  EDI高純水設備作為制取超純水的設備,作為反滲透設備后的二次除鹽設備,可以制取出高達10-18.2MΩ.CM。因此廣泛用于微電子工業,半導體工業,發電工業,制藥行業和實驗室。也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產用水、發電廠的鍋爐的補給水,以及其它應用高純水。

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